知情人士透露，荷兰曝光机制造商ASML计划上调芯片制造设备价格，最近已与台积电台（2330-TW）（TSM-US）讨论此事，但台积电正设法抵制ASML的涨价计划。
据《The Information》周三（15日）报导，ASML近几周也告诉中国芯片厂等客户打算提高深紫外光（DUV）设备的价格，涨幅至少10%。
部分中国芯片制造商已同意接受ASML调高DUV设备价格，但台积电反对极紫外（EUV）与DUV设备同步涨价。
ASML 生产用于制造先进半导体所必需的 EUV 曝光机，在人工智能（AI）热潮推动下，ASML 设备需求持续激增。
ASML最先进DUV光刻机单价约9,000万美元，上一代EUV设备约2.2亿美元，最新一代EUV机型售价最高可达4亿美元。
RBC Capital Markets 分析师Srini Pajjuri等人在周一的报告中表示，台积电、三星电子、SK海力士等ASML主要客户的业绩强劲，使当前市场环境「具备涨价条件」。
ASML 首席财务官Roger Dassen周三在财报电话会上也提及，可能调整较低数值孔径（Low NA）EUV光刻机的价格。
Dassen 表示：「我们持续提升 Low NA EUV 设备的生产效率，这也为未来潜在价格提升提供了相当大的空间。」
不过，他也提到，由于设备订单交付周期较长，即使调整价格，也不会「明天就反映到定价效果上」。
ASML当天还宣布，今年第二次上调全年销售预测，并计划扩大产能，以满足持续增长的市场需求。 ASML预估2026年净销售额将达到430亿至450亿欧元（约492亿美元至515亿美元），高于分析师普遍预期。
与此同时，ASML 表示，英特尔 （INTC-US） 已开始使用旗下最先进曝光机进行生产芯片。 ASML首席执行官 Christophe Fouquet认为，这表明该设备已具备商业化生产的可行性，是一个积极信号。
