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台积电霸权危险了?传英特尔先进封装良率已冲到90%

随着台积电( 2330-TW ) 先进封装CoWoS 产能持续吃紧,市场开始将目光转向英特尔( INTC-US ) 的EMIB 封装技术。据悉,英特尔在关键EMIB 制程上已达约90% 的高良率,显示该技术有望在新一代人工智慧(AI)资料中心晶片中扮演更重要角色。…

随着台积电( 2330-TW ) 先进封装CoWoS 产能持续吃紧,市场开始将目光转向英特尔( INTC-US ) 的EMIB 封装技术。据悉,英特尔在关键EMIB 制程上已达约90% 的高良率,显示该技术有望在新一代人工智慧(AI)资料中心晶片中扮演更重要角色。

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传英特尔先进封装良率已冲到90%。 (图:Shutterstock)

根据《Wccftech》报导,GF 证券科技研究部分析师Jeff Pu 透露,英特尔EMIB 的良率表现令人印象深刻,目前已达到90% 的水准。

他指出,这项数据对英特尔晶圆代工业务而言是重大利多,也说明了外界近期对英特尔代工能力信心回升的原因。

英特尔EMIB 封装技术被视为台积电CoWoS 的替代方案。其中,Google( GOOGL-US ) 将采用英特尔EMIB 封装技术,应用于其下一代TPU 晶片;辉达( NVDA-US ) 则计划将其导入代号「Feynman」的下一代GPU 产品。

此外,Meta( META-US ) 同样是EMIB 技术的客户之一,不过双方合作计画围绕预计2028 年底推出的CPU 展开,相关细节有待后续披露。

英特尔也持续强调EMIB 技术的多项优势,包括提升整体良率、降低功耗与成本,以及支援更大规模「混合节点」系统整合等特点。

据悉,目前EMIB 技术主要分为两种规格:EMIB-M 与EMIB-T。其中EMIB-M 在矽桥接电路中采用金属- 绝缘体- 金属(MIM)电容,以有效降低杂讯、强化电源传输与电路完整性。

相较于传统金属- 氧化物- 金属(MOM)电容,MIM 电容虽成本略高,但稳定性更佳、漏电率更低。

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